广州新锐光掩模科技有限公司成立于 2021 年 2 月，坐落于广东省广州市黄埔开发区中新知识城集成电路产业园，是国内独立光掩模生产制造商。公司聚焦于半导体光掩模的研发与产业化生产，提供光掩模版制造、光掩模保护膜贴膜、定期品质检测、光掩模去膜修补和清洗、光刻相关咨询等服务。
光掩模是集成电路关键工艺光刻流程所必须的基础材料，激光投影将光掩模图像非常高效快速地重复印刷至硅片上，从而实现超大规模的集成电路芯片生产。掩模版是光刻复制图形的基准和蓝本，其分辨率水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
新锐光掩模的核心团队集中了多名二十年以上光掩模制造经验丰富的技术专家与管理人才，为光掩模制造技术成功落地保驾护航，旨在解决我国光掩模材料长期依赖进口的局面。未来将建设成珠江三角洲***的光掩模制造中心，为广东省成为中国集成电路的第三极提供有力支撑，为实现纳米级大规模集成电路产业蓬勃发展，奠定坚实的基础。